VTC-2DC2英寸500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品概述：
VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2英寸的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。
主要參數(shù)：
l 輸入電源：220V AC 50Hz
l 輸出電壓：600 VDC
l 輸出功率：*大500W
l 整機功率：1000W（包括真空泵）
濺射腔體：
l 采用石英腔體，尺寸：166mm OD x 150mm ID x250mm H（配置直靶頭）
l 尺寸：166mm OD x 150mm ID x290mm H（配置帶角度傾斜靶頭）
l 密封法蘭:直徑為165mm，采用金屬制作，密封采用O形密封圈
濺射頭&樣品臺：
l 濺射頭安裝靶材直徑為2英寸，同時可選配1英寸濺射頭
l 儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺，其與濺射頭之間距離可調(diào)
l 樣品臺可加熱，加熱溫度RT-500℃（RT為室溫）
l 安裝有一可手動操作的擋板
l *大可制膜的直徑為:2英寸（標配2英寸，如果需要更大尺寸請與我們銷售聯(lián)系）
真空系統(tǒng)：
l 安裝有KF25真空接口
l 數(shù)字真空壓力表（Pa）
l 此系統(tǒng)運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含）
l 采用機械泵< 3.8E-2 Torr(參考值，詳情請點擊）
l 采用渦旋分子泵< 3.8E-5 Torr(參考值，詳情請點擊）
l 可在本公司選購各種真空泵
進氣：
l 設備上配1/4英寸進氣口方便連接氣瓶
l 設備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕，方便調(diào)節(jié)氣流
靶材：
l 靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1-5)mm(厚度)
l 可在本公司選購各種靶材
薄膜測厚儀（可選）：可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上
產(chǎn)品外形尺寸：
540mm L x540 mm W x1100mm H
凈重：70 kg（不包括泵）
質(zhì)量認證：CE認證
l 使用提示：
有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜
l 為了得到較好的薄膜質(zhì)量，必須通入高純氣體（建議> 5N）
l 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
l 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面
l 超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥（4）真空烘箱除去水分。
l 等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
l 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。
警告：
l 注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體。
l 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕
濺射頭連接到高電壓。為了**，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶
